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财经专家揭秘台积电「抗震神器」:1铃声预告出大事

  • 花莲外海3日上午发生规模7.2大地震,台积电昨晚间发声明,震后10小时内,晶圆厂设备的复原率已超过70%,虽少数设备受损并影响部分产线生产,但主要机台包含所有极紫外(EUV)光刻设备皆无受损。对此,财经专家黄世聪表示,台积电晶圆厂的机台,使用的是美国航天等级、连美军都在用的阻尼器,且下方还有抗震减压的机台,把地震影响降到最小,且台积电工程师训练有素,只要发生地震、听到公司手机响起台积电之歌的铃声,就知道出大事、要赶回公司。台积电产能牵动全球科技业,强震后外界关注影响。台积电昨晚发布声明,在3日地震发生后仅
  • 关键字: 台积电  抗震神器  EUV  强震  

台积电曝EUV主要机台没受损 美媒示警:强震后面临考验

  • 昨日花莲发生规模7.2地震,外媒高度关注是否对中国台湾护国神山台积电造成影响,台积电表示,部分厂区的少数设备受损,但所有极紫外(EUV)光刻设备等主要机台皆无受损。《华尔街日报》撰文指出,台积电坐落在世界上最大地震热点之一的中国台湾,在昨日强震后将受到考验。报导指出,在此次地震中台积电是幸运的,因为其主要设施地点位在北、中、南部,与东部的震央距离相对较远,这次台积电新竹、龙潭和竹南等科学园区的最大震度为5级 ,台中和台南科学园区的最大震度4级。虽然台积电工厂建筑物完好无损,但用于制造半导体的设备和材料非常
  • 关键字: 台积电  EUV  强震  

中国台湾地震影响全球半导体业 一文看懂如何撼动芯片供应链

  • 3日早上7点58分左右,中国台湾花莲发生规模7.2地震,扰乱台积电在内的公司营运,台积电对此表示,虽然部分厂区的少数设备受损并影响部分产线生产,但主要机台包含所有极紫外(EUV)光刻设备皆无受损。许多外媒则示警,这凸显了台积电和全球芯片供应链处在地震的风险与威胁之中。 根据《商业内幕》报导,这场7.2强震凸显了全球芯片供应链和台积电的脆弱性,台积电是世界上最大的芯片制造商,全球大约90%的最先进处理器芯片都是台积电生产,而且中国台湾也是小型芯片生产商的所在地。报导示警,如果大地震能够扰乱台积电,那么更具破
  • 关键字: 半导体  芯片供应链  台积电  EUV  

High-NA EUV光刻机入场,究竟有多强?

  • 光刻机一直是半导体领域的一个热门话题。从早期的深紫外光刻机(DUV)起步,其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础;再到后来的极紫外光刻机(EUV)以其独特的极紫外光源和更短的波长,成功将光刻精度推向了新的高度;再到如今的高数值孔径光刻机(High-NA)正式登上历史舞台,进一步提升了光刻的精度和效率,为制造更小、更精密的芯片提供了可能。ASML 官网显示,其组装了两个 TWINSCAN EXE:5000 高数值孔径光刻系统。其中一个由 ASM 与 imec 合作开发,将于 2024 年安装在 A
  • 关键字: High-NA EUV  

ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻机引入部分 High-NA 机型技术

  • 3 月 27 日消息,据荷兰媒体 Bits&Chips 报道,ASML 官方确认新款 0.33NA EUV 光刻机 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻机的技术,运行效率得以提升。根据IT之家之前报道,NXE:3800E 光刻机已于本月完成安装,可实现 195 片晶圆的每小时吞吐量,相较以往机型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技术 High-NA(高数值孔径) EUV 采用了更宽的光锥,这意味着其在 EUV 反射镜上的撞击角度更宽,会导致影响晶圆吞吐量的光损失。
  • 关键字: ASM  NXE:3800E EUV  光刻机  High-NA  

ASML正计划搬离荷兰?向外扩张转移业务成为最优解

  • 据路透社报道,光刻机巨头阿斯麦(ASML)正计划将公司搬离荷兰。荷兰政府紧急成立了一个名为“贝多芬计划”的特别工作组,由首相马克·吕特亲自领导,以确保ASML继续在荷兰发展。消息还称,ASML已向荷兰政府提出了意向,表示将有可能在其他地方扩张或迁移,法国或是选择之一。针对最近“搬离荷兰”等传言,ASML发言人对媒体称他们在考虑公司的未来,但没有透露具体的想法。ASML为何要搬离荷兰?凭借先天的地理位置及海港内陆网络,荷兰一直为欧洲的交通枢纽,国家经济高度依赖国际贸易,2022年最新出口额占全国GDP之比超
  • 关键字: ASML  荷兰  EUV  佳能  光刻机  

韩国芯片巨头SK海力士计划升级在华工厂

  • 据韩媒报道,韩国芯片巨头SK海力士准备打破美国对华极紫外(EUV)光刻机出口相关限制,对其中国半导体工厂进行技术提升改造。这被外界解读为,随着半导体市场的复苏以及中国高性能半导体制造能力提升,一些韩国芯片企业准备采取一切可以使用的方法来提高在华工厂制造工艺水平。韩国《首尔经济》13日的报道援引韩国业内人士的话称,SK海力士计划今年将其中国无锡工厂的部分动态随机存取存储器(DRAM)生产设备提升至第四代10纳米工艺。对于“无锡工厂将技术升级”的消息,SK海力士方面表示“无法确认工厂的具体运营计划”。无锡工厂
  • 关键字: SK海力士  芯片  EUV  

英特尔拿下首套High-NA EUV,台积电如何应对?

  • 英特尔(intel)近日宣布,已经接收市场首套具有0.55数值孔径(High-NA)的ASML极紫外(EUV)光刻机,预计在未来两到三年内用于 intel 18A 工艺技术之后的制程节点。 相较之下,台积电则采取更加谨慎的策略,业界预计台积电可能要到A1.4制程,或者是2030年之后才会采用High-NA EUV光刻机。业界指出,至少在初期,High-NA EUV 的成本可能高于 Low-NA EUV,这也是台积电暂时观望的原因,台积电更倾向于采用成本更低的成熟技术,以确保产品竞争力。Hig
  • 关键字: 英特尔  High-NA EUV  台积电  

ASML两款光刻机出口许可被撤销

  • 1月2日,全球光刻机龙头ASML在官网发布声明称,荷兰政府最近撤销了此前颁发给其2023年发货NXT:2050i和NXT:2100i光刻机的部分出口许可证,这将对ASML在中国内地的个别客户产生影响。在声明中,ASML表示:“在新的出口管制条例下,今年(指2023年)年底前ASML仍能履行已签订的合同,发运这些光刻设备。客户也已知悉出口管制条例所带来的限制,即自2024年1月1日起,ASML将基本不会获得向中国客户发运这些设备的出口许可证。”预计此次出口许可证撤销及最新的美国出口管制限制不会对公司2023
  • 关键字: ASML  光刻机  DUV  EUV  

​ASML被禁止向中国运送其部分关键的芯片制造工具

  • 半导体设备制造商ASML表示,荷兰政府禁止其向中国出口部分工具。ASML表示,荷兰政府最近部分撤销了其NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统在2023年装运的许可证。在撤销船舶许可证之前,美国政府在10月份加强了对中国先进半导体和芯片制造工具的出口管制,并在此前的规定基础上进行了进一步收紧。荷兰公司ASML制造了制造世界上最先进芯片所需的最重要机器之一。美国的芯片限制使包括ASML在内的公司争先恐后地弄清楚这些规则在实践中的含义。ASML公司该公司表示,荷兰政府禁止其制造最先进半导体的关键机器向中
  • 关键字: ASML  DUV  EUV  

英特尔拿到首台2nm光刻机 重回领先地位?

  • 12月21日,荷兰光刻机巨头ASML通过社交媒体宣布,其首套高数值孔径极紫外(High-NA EUV)光刻机正从荷兰Veldhoven总部开始装车发货,将向英特尔进行交付。数值孔径(NA)是光刻机光学系统的重要指标,直接决定了光刻的实际分辨率和最高能达到的工艺节点。
  • 关键字: 英特尔  2nm  光刻机  EUV  ASML  台积电  

韩国总统到访之际,ASML与三星达成7.52亿美元的芯片厂协议

  • 周二,荷兰科技巨头ASML和三星(Samsung)签署了一项价值约7亿欧元的协议,将在韩国建设一家半导体研究厂。与此同时,韩国总统尹锡悦(Yoon Suk Yeol)结束了这次以科技为重点的访问的第一天。尹锡悦是第一位到访ASML高度安全的“无尘室”的外国领导人,这次到访荷兰的目的是在这两个全球半导体大国之间结成“芯片联盟”。他参观了ASML的城市规模设施,该公司制造先进的机器来制造半导体芯片,为从智能手机到汽车的一切提供动力。ASML和三星后来同意“未来共同”投资该设施,该设施将“使用下一代EUV(极紫
  • 关键字: 三星  ASML  EUV  

纽约州宣布联合IBM、美光等公司,斥资100亿美元建立研发中心

  • 据IBM官网消息,美国纽约州州长宣布与IBM、美光以及其他行业参与者合作,投资100亿美元在纽约州 Albany NanoTech Complex 建设下一代 High-NA EUV 半导体研发中心。IBM称,这将是北美第一个也是唯一一个拥有高数值孔径极紫外光刻(高NA EUV)系统的公共研发中心,可为开发和生产小于2nm的节点芯片铺平道路。
  • 关键字: IBM  美光  EUV  

佳能押注纳米压印技术 价格比阿斯麦EUV光刻机“少一位数”

  • 11月6日消息,日本佳能一直在投资纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL)这种新的芯片制造技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻(EUV)技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示,该公司最新的纳米压印技术将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条道路。“这款产品的价格将比阿斯麦的EUV少一位数,”现年88岁的御手洗富士夫表示。这是他第三次担任佳能总裁,上一次退
  • 关键字: 佳能  纳米  压印技术  阿斯麦  EUV  光刻机  
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euv介绍

在半导体行业,EUV一般指EUV光刻,即极紫外光刻。 极紫外光刻(英语:Extreme ultra-violet,也称EUV或EUVL)是一种使用极紫外(EUV)波长的光刻技术。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源,可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。 根据瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),这么短的波长可以提供极高 [ 查看详细 ]

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